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高新企业申报专利解答

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深度解读

高新企业申报需要报送的资料很多,其中专利就是一大难坎,没有充足的准备和真实的材料支撑,要想获得评审专家的认可几乎是不可能的,所以我们需要基本了解申报专利的大致情况,具体可以分为以下几方面:

一、明确高新企业申报的专利类型

1、实用新型专利:指的是指对产品的形状、构造或者其结合所提出的适于实用的新的技术方案。通常高新企业申报的实用新型专利只能用来保护产品,并且该产品应当是经过产业方法制造的,有确定形状、构造且占据一定空间的实体;

2、外观专利:指的是对产品的形状、图案以及色彩与形状、图案的结合所做出的富有美感并适于工业应用的新设计;

3、发明专利,是指对产品、方法或者其改进所提出的新的技术方案。

二、了解高新企业申报专利撰写流程

1、背景阐述:这一部分是主要描述专利产生的原理和生产的背景;

2、专利内容:大致内容主要包括本发明的方案概述以及想达到的技术效果;

3、专利内容附图:为了能更清楚地解释具体实施方式,通过图片来进行直观地感受;

4 摘要说明:这一部分主要是针对专利的核心要点进行解释和描绘,因此须得客观又严谨,让评审专家们信服;

5、摘要附图,对摘要说明部分进行附图,给予核心要点真实的形象结构,加深评审印象;

6、权利要求书,即依照本发明方案具体来列出若干独立权利要求以及一系列的从属权利要求,这一部分也是申请专利的重要部分,一般不超过十项;

注意点:专利撰写考验的是逻辑推理能力,审判专家都是各领域的能人,如果专利说明不能有迹可循,推断得当,专家会认为企业此项专利为虚构,直接给予否决!

三、熟悉申报专利的要求

1、所有用于高新企业申报的专利要秉持一个首要原则,不能对社会造成不良影响,评审专家在审判的第一时间就是关注这一条,所以要进行高新企业申报就不能触碰这些禁忌;

2、所有的实用新型专利都可以申请发明专利,但不代表所有的发明专利都可以申请实用实用新型专利;

3高新企业申报实用新型或者外观专利时要拍摄六面图,并且六面图不能有阴影和反光,一旦出现阴影或反光,专家们会认为六个图不一致而否认该专利申请;

专利是知识产权的一部分,在高新企业申报认定中对其数量和质量都做了明确的规定,所以要想高新企业申报夺得高分,企业就需要提前谋划好专利布局,清楚专利定位和核心要点,以获得专家们的认可!

 


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